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C-V 특성 2

반도체 기초 Chapter 11 - 5. 전압 세기에 따른 MOS 구조의 C-V 특성

Chapter 11 - 5. 전압 세기에 따른 MOS 구조의 C-V 특성 MOS 구조의 C-V 특성은 게이트 전압의 변화에 따른 게이트 전화량의 변화이다.산화막 정전 용량, 게이트 영역 정전용량, 기판영역 정전용량 모두가 직렬로 연결된 구조이다.MOS 구조의 정전용량은 기판 영역의 정전용량과 같다. (다른 정전용량은 매우 작다.) 기판 영역의 전하- 다수 캐리어의 축적과 공핍- 소수 캐리어인 반전 전하  게이트 전압 변화에 따른 C-V 특성 변화 임계전압보다 낮은 게이트 전압이 인가된 MOS 구조의 C-V 특성  - 다수 캐리어 축적 상태의 C-V 특성 (V_G 게이트 전압이 작게 변해도 기판 정전용량은 크게 변한다. - 평탄대역 상태의 C-V 특성 (V_G = V_FB)게이트 전압에 평단대역 크기의 전..

반도체 기초 Chapter 11 - 4. MOS 구조의 임계전압과 일함수

Chapter 11 - 4. MOS 구조의 임계전압과 일함수 임계전압은 MOS 구조의 특성에서 가장 중요한 지표이다. 그리고 MOSFET의 동작 상태를 제어할 수 있는 전압이다.  MOS 구조의 임계전압임계전압에 영향을 주는 지표- 게이트의 도핑 종류와 농도, 기판의 도핑 종류와 농도: 평탄 대역 전압과 기판의 일함수 차이 결정- MOS 산화막의 두께와 유전 상수: 산화막 정전용량 결정 (산화막의 두께가 얇을수록, 유전 상수가 클수록 임계전압 감소)- 기판의 도핑 농도와 페르미 전위 (기판의 도핑 농도가 증가할수록 임계전압 증가)- 임계 상태의 공간전하량: 게이트 산화막 양단의 전압 강하 결정 대부분 경우에 산화막의 재료 또는 두께를 조절해서 임계전압을 제어한다.  온도에 따른 임계전압의 변화트랜지스터의..

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